В интегральных схемах начала 1970-х годов использовались линии шириной 20 мкм. К середине 1970-х годов геометрические размеры этих линий уменьшились до 10 мкм.

В конце десятилетия вполне обычными для производства микросхем стали размеры 3-4 мкм, причем уже довольно легко можно было получать опытные образцы схем с линиями шириной 1- 2 мкм. В начале десятилетия практически все микросхемы изготавливались с экспонированием ультрафиолетовым светом через фотошаблоны, находящиеся либо в соприкосновении, либо в непосредственной близости с покрытыми резистом пластинами.

Такая система обеспечивала удовлетворительную разрешающую способность, однако ее узким местом были фотошаблоны, и к тому же она давала малый процент выхода годных кристаллов. Чтобы исключить эти недостатки, фирма Perkin-Elmer Corp. в 1973 г. разработала оптическую проекционную установку Micralign. Эта бесконтактная система обеспечила резкое увеличение процента выхода годных микросхем и повышение долговечности фотошаблонов.

Система Micralign была оптической проекционной установкой, способной экспонировать всю полупроводниковую пластину одновременно в масштабе 1 : 1, с линиями и зазором между ними шириной в 2 мкм и ошибкой совмещения ±1 мкм - более чем достаточно для микросхем 1970-х годов. Она была, по-видимому, наиболее используемой литографической машиной десятилетия. Электронно-лучевая литография стала главным фактором, обеспечившим изготовление фотошаблонов для оптического литографического оборудования.

Без способности изготавливать фотошаблоны с линиями микронной ширины был бы невозможен ни один литографический метод изготовления БИС, основанный на использовании либо фотошаблонов, либо сеток. Одна из первых электронно-лучевых систем была разработана фирмой Bell Laboratories в 1974 г. В этой системе под названием "Система электронно-лучевого экспонирования" фотошаблоны изготавливались при помощи электронного луча с растровым сканированием, направляемого на непрерывно движущийся стол.